Поверхностно активные вещества для электронных компонентов 3M™ Novec™

ПАВ 3M™ Novec™ для электронных компонентов с низким содержанием металлов применяются для снижения поверхностного натяжения и улучшения характеристик смачивания, выравнивания и управления потоком различных технологических жидкостей и покрытий.

Например, ПАВ используются при производстве полупроводников для улучшения проникающей способности растворов для травления и других водных реактивов для обработки микроэлектронных компонентов, таких как растворы с низким показателем pH. Также они применяются в качестве смачивающих веществ в фоторезистах, реактивах для удаления фоторезиста и его краевых утолщений, при изготовлении антибликовых покрытий и центрифугированных стекол.

Формула ПАВ 3M™ Novec™ для электронных компонентов отличается химической стойкостью. Кроме того, ПАВ обладают отличной растворимостью необходимой для удобства смешивания, содержат малое количество металлов и способны выдерживать непрерывную фильтрацию.